光学薄膜设计软件修改版

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光学薄膜设计软件修改版内容简介：

tfcalc软件可以使你分析设计多层薄膜，他们的一些功能如下：

它可以将反射率、透过率、吸收率、光密度、损失、颜色、亮度、psi、基于反射后投射的相移和电场强度计算并绘制表格。

它可以分析膜系设计同生产之间的误差。优化可以使误差最小化。膜层灵敏度可以计算并演示出来。

可以在一系列圆锥角（就像集中的光束一样）和用户定义的辐射发散角内分析一个膜系。

镀膜所用膜料、基底和外部介质可能是弥散或者吸收的，而内部介质却是弥散的。弥散公式可以用来给定膜料和基底的相关系

数。

基底或膜层的折射率（n和k）可以由测定的数据来确定。光源要详细说明。薄膜的折射或投射可以储存作为光源，所以滤光器的

输出可作为另一个滤光器的输入。同样，黑体光源可以由此产生。

探测器的功能：

基底有有限的厚度；折射和透射计算时要考虑到基底后表面和基底内部的任何衰减。

一个膜系最多可以有5000层150种材料组成。

膜堆以公式的形式出现，例如：h(lh)^5

膜层可以被安排在组内，可以整组优化。

全球搜索用来寻找最好的设计方案而不仅仅是the local minimum

基底两侧的膜层可以同时优化。在优化过程中，膜层厚度可以限定在最小和最大厚度之间。

有多达5000个优化目标可以指定。同样，一个目标可以是一个不等式，例如<10%或>90％。

复合环境可以用来开发像复合基底的膜系设计。

needle优化可以在设计中自动加入膜层，尤其是对那些有特殊要求的设计。这种掘进方法可以用来自动产生一系列最佳的设计。

目标可能会自动产生。同样，目标也可以从文件中读出，形成颜色和亮度目标。

第二和第三阶关于波长或波数的导数可以用作目标。

可以计算出等效系数来将膜层用复合系数的等效膜堆[例如：(hlh)^p或(lhl)^p]来代替。

有三种local 优化方法可选：梯度法、变尺度法和单纯形法。

对不限定数量的材料、基底、光源、探测器和分配的数据要输入。

六层薄膜运算的结果放入一个表格内进行对比。不同类的图表将被覆盖掉,例如：折射透射。

最小、最大和平均参量（例如折射率）可以在一定波长范围内计算。

结果被保存在文本文档中以供其他软件编辑。

光控曲线可以计算并列表。

file menu（文件目录）：

用此目录来读取、写入和打印膜系文件。一下主要介绍每个目录项：

new coating（创建新膜系）

开始创建一个新的膜系，如果在tfcalc程序同一目录下存在一个膜系名为default，那么就会打开此膜系文件。快捷键：

control-n

open coating（打开文件）

读取磁盘中已经存在的膜系文件，程序会显示每一个膜系文件的名字并要求你选择一个打开。当tfcalc开始运行时就会显示此窗

口。全部膜系文件都是以tfd作为后缀名。快捷键：control-o

reopen coating（从新打开膜系）

用来打开一个原来打开过的膜系，tfcalc保存最近20个用户打开的膜系，当用户选定此命令时，膜系会显示在一个窗口中。

close coating（结束膜系）

选此命令将告知计算机你已经结束了当前的膜系设计，如果你没有保存当前的膜系，它会询问你是否想结束膜系。

save coating（保存膜系）

此命令用来保存你设计的膜系，当一个膜系保存后你仍可以继续在这个膜系上设计。时常保存膜系是很好的习惯，这样如果你遭

遇了停电，这样的行为会挽回你的数据。快捷键：control-s

save coating as（另存膜系为）

此命令是在一个新目录下保存膜系。你需要输入新名称，此命令尤其在你在相似的膜系上编辑或做运算时有很大用途。

revert to original（返回原始膜系）

用来返回当前膜系的原始状态，例如，你用打开命令打开膜系或最后保存的膜系。此命令在你将一个膜系改动后却不及原来的膜

系时有用。

print coating（打印膜系）

打印当前膜系。快捷键：control-p

打印机安装使你能指定怎样打印文本和图表，你在设置打印机时会看到一个对话框来设置你的打印机。

exit tfcalc（退出tfcalc）

如果当前膜系没有保存，tfcalc会询问你是否保存。

about tfcalc（关于tfcalc）

给出一些tfcalc的信息，包括你所购买的程序的序列号。

edit menu（编辑目录）：

编辑目录列出了标准windows目录，你可以使用这些命令来编辑你所需要的文本。下面主要讲述每一个目录项。

undo（撤销命令）

undo在当前的程序中是无效的，如果你犯了错误，此命令对你没有任何帮助。

cut（剪切）

移除你选定的文本，文本被保存在剪切板里。

copy（copy）

复制你选定的文本，文本被保存在剪切板里。

paste（粘贴）

将剪切板里的内容插入光标所在的位置。

clear（清除）

将选定的文本擦除。

使用说明：

1、the model（范例）                                           

存储在光源数据库内的光源是以波长对光强的方式给出的。入射角度可以从0度到89.999度。基底和基底内部、外部的介质材料可在基底数据库中选择。基底可以被看作是一大厚度层，它的厚度可以单独指定。注意的是基底可以是比如说空气之类的物质。基底和出射介质都有可能是吸收介质。前层膜与后层膜之间的材料是从材料库中选择的或者从可变材料库中选取的。现在的膜层极限是5000层。基底和材料的光学属性被存储在表格或反映反射率对波长关系的离散公式里。

现在可以确定光从哪一个面入射：前或后层。也就是说，光可以从膜层的任意一个面入射。要获得这方面的细节还要看环境参量对话框。

这样第一层是紧靠基底的一层。

注意：如果基底和出射介质不同或有后层膜，反射率计算时就要考虑到后层膜。如果你想避免如此，出射介质就必须同基底材料一样而且没有后层膜。

2、capabilities（性能）                                         

tfcalc软件可以使你分析设计多层薄膜，他们的一些功能如下：

它可以将反射率、透过率、吸收率、光密度、损失、颜色、亮度、psi、基于反射后投射的相移和电场强度计算并绘制表格。

它可以分析膜系设计同生产之间的误差。优化可以使误差最小化。膜层灵敏度可以计算并演示出来。

可以在一系列圆锥角（就像集中的光束一样）和用户定义的辐射发散角内分析一个膜系。

镀膜所用膜料、基底和外部介质可能是弥散或者吸收的，而内部介质却是弥散的。弥散公式可以用来给定膜料和基底的相关系数。

基底或膜层的折射率（n和k）可以由测定的数据来确定。光源要详细说明。薄膜的折射或投射可以储存作为光源，所以滤光器的输出可作为另一个滤光器的输入。同样，黑体光源可以由此产生。